使指定波段的光線在膜層上大部分或接近全部反射出去，在圖紙上用符號  和  表示。根據膜層材料，可分為兩類：金屬反射鏡和電介質反射鏡。模具要想獲得高質量的拋光效果，最重要的是要具備有高質量的油石、砂紙和鉆石研磨膏等拋光工具和輔助品。光學玻璃的拋光程序的選擇取決于前期加工后的表面狀況，如機械加工、電火花加工，磨加工等等。機械拋光的一般過程如下：  

    
（1）粗拋 經銑、電火花、磨等工藝后的表面可以選擇轉速在35 000—40 000 rpm的旋轉表面拋光機或超聲波研磨機進行拋光。常用的方法有利用直徑Φ3mm、WA # 400的輪子去除白色電火花層。然后是手工油石研磨，條狀油石加煤油作為潤滑劑或冷卻劑。一般的使用順序為#180 ~ #240 ~ #320 ~ #400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000。許多模具制造商為了節約時間而選擇從#400開始。  同時提高拋光速率近2倍;并提高玻璃拋光表面的粗糙度及“亮度”。拋光下盤以后,可存放數天或10多天時間,便于零件運轉和下道工序加工。 
  
（2）半精拋 半精拋主要使用砂紙和煤油。砂紙的號數依次為：#400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000 ~ #1200 ~ #1500。實際上#1500砂紙只用適于淬硬的模具鋼（52HRC以上），而不適用于預硬鋼，廈門益唯特光學玻璃認為因為這樣可能會導致預硬鋼件表面燒傷。因為硅膠易溶于堿性溶液,在堿性溶液中就能較穩定的形成膠體狀態。但硅膠不易溶于酸性溶液,這使硅酸膠體雖結成大顆粒沉淀,這樣無疑是對拋光不利的。所以拋光液的ｐＨ值高時,則硅膠穩定,不利于拋光。   
    

（3）精拋 精拋主要使用鉆石研磨膏。若用拋光布輪混合鉆石研磨粉或研磨膏進行研磨的話，則通常的研磨順序是9μm（#1800）~ 6μm（#3000）~3μm光學冷加工生產操作9μm的鉆石研磨膏和拋光布輪可用來去除#1200和#1500號砂紙留下的發狀磨痕。接著用粘氈和鉆石研磨膏進行拋光，順序為1μm（#14000）~ 1/2μm（#60000）~1/4μm（#100000）。而要改變光學玻璃組成結構,以改善其物理化學性能,勢必影響其光學性能,這就失去采用此類玻璃的實際意義了。

廈門益唯特光學玻璃認為，對于圓形的光學零件，精磨拋光完工之后一般都還要進行磨邊，使其側圓柱面尺寸滿足裝配要求；對于球面透鏡，磨邊還有一個重要作用：就是校正透鏡在研磨拋光過程中很難完全避免的偏心，即校正兩球心連線(光軸)與外圓對稱軸(幾何袖)的偏離。